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- [发明专利]光掩模坯料、光掩模及光掩模的制造方法-CN201880021110.2有效
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坂本好史;小岛洋介;长友达也
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凸版光掩模有限公司
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2018-04-02
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2023-06-20
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G03F1/32
- 本发明的目的是提供一种具有良好的晶圆转印特性和耐照射性的光掩模坯料和光掩模。光掩模坯料(200)是为了制作曝光波长193nm的光掩模所使用的光掩模坯料(200)，所述光掩模坯料(200)具备：透光性基板(103)；形成在该透光性基板(103)上且带来相移效应的相移膜(102)，相移膜(102)是通过层叠使用了氮化硅系材料的第1相移膜(102b)、和使用了氮氧化硅系材料的第2相移膜(102a)而构成的，所述第1相移膜(102b)的折射率n1为2.5以上2.75以下，衰减系数k1为0.2以上0.4以下，所述第2相移膜(102a)的折射率n2为1.55以上2.20
- 光掩模坯料制造方法
- [发明专利]掩模及其制造方法和用该掩模制造微透镜的方法-CN200710136896.6无效
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李峻硕
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东部高科股份有限公司
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2007-07-23
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2008-01-23
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G03F1/00
- 本发明涉及一种掩模及其制造方法和用该掩模制造微透镜的方法，该掩模包括：透明掩模，由掩模图案区限定；以及掩模图案，位于掩模图案区上，包括第一相移层以及位于第一相移层上的第二相移层，第一相移层具有第一透射率而第二相移层具有第二透射率该微透镜汇聚CMOS图像传感器中的外部光，使得由光电二极管照射的微透镜能够具有良好的曲率半径。借助本发明，通过叠置至少两个具有彼此不同的透射率的相移层来形成用以形成CMOS图像传感器中微透镜的相移掩模，使得当用该相移掩模形成微透镜时微透镜能够具有均匀大小并且微透镜能够具有均匀曲率而与掩模图案阵列的位置无关
- 及其制造方法透镜
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